中微公司在商业秘密案中赢得二审胜诉！

    7月13日最新消息，中国半导体设备龙头中微公司日前宣布，他们在对美国科林研发（Lam Research Corporation）提起的商业秘密侵权案件中获得了二审胜诉的消息。     根据上海市高级人民法院于6月30日做出的终审判决，法院下令科林研发销毁非法获取的与中微公司的等离子刻蚀机有关的技术文件和照片。与此同时，法院还禁止科林研发及其两名个人被告披露、使用或允许他人使用中微公司的专有技术秘密，并要求科林研发向中微公司支付赔偿金和法律费用。
 
    中微公司表示，他们在2010年12月向上海市第一中级人民法院提起了对科林研发侵犯商业秘密的一审诉讼，并于2017年3月获得了一审胜诉。此后，该案件上诉至上海市高级人民法院，经历了长达6年的二审过程，最终取得胜利。
 
    就全球半导体设备厂商的排名而言，科林研发目前位列前三。根据CINNO Research的统计数据，2022年全球上市公司半导体设备业务营收排名中，美国应用材料（AMAT）位居首位，荷兰阿斯麦（ASML）位居第二，而美国科林研发（LAM）则位列第三，日本东京电子（TEL）位列第四；科磊（KLA）排名第五。
 
    半导体行业是一项技术门槛较高的行业，随着中国半导体设备产业的崛起，产业纠纷也在巨头之间不断出现。除了与科林研发的矛盾之外，中微公司在2017年还与Veeco上海发生了争议，成为当年半导体产业的知识产权重要事件。
 
    以上是关于中微公司在商业秘密案中取得二审胜诉的报道。这一结果将对半导体设备行业产生一定的影响，同时也凸显了知识产权保护在该行业的重要性。